捷歐路JEOL JBX-3050MV 電子束光刻系統
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簡介：捷歐路JEOL JBX-3050MV 電子束光刻系統是用于制作45nm～32nm 節點的掩模版/中間掩模版（mask/reticle）的可變矩形電子束光刻系統。最先進的技術實現了高速、高精度和高可靠性。是基于加速電壓50 kV的可變矩形電子...
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捷歐路JEOL JBX-3050MV 電子束光刻系統是用于制作45nm～32nm 節點的掩模版/中間掩模版（mask/reticle）的可變矩形電子束光刻系統。最先進的技術實現了高速、高精度和高可靠性。是基于加速電壓50 kV的可變矩形電子束和步進重復式的光刻系統。利用步進重復式曝光的優點，結合曝光劑量調整功能及重疊曝光等功能，能支持下一代掩模版/中間掩模版（mask/reticle）圖形制作所需要的多種補償。
| 拼接精度 | ≦±3.8 nm |
| 套刻精度 | ≦±7 nm |
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