捷歐路JEOL JBX-9500FS 電子束光刻系統
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簡介：捷歐路JEOL JBX-9500FS 電子束光刻系統是一款100kV圓形束電子束光刻系統，兼具世界最高水平的產出量和定位精度，最大能容納300mm的晶圓片和6英寸的掩模版，適合納米壓
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捷歐路JEOL JBX-9500FS 電子束光刻系統是一款100kV圓形束電子束光刻系統，兼具世界最高水平的產出量和定位精度，最大能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的掩模版，適合納米壓印、光子器件、通信設備等多個領域的研發及生產。
此外，由于具有100MHz的最快掃描速度，場尺寸在1000µm×1000µm時的套刻精度達到±11nm、場拼接精度為±10nm、寫場內位置精度達±9nm，是兼具世界最高水準產出率和位置精度的100kV圓形束光刻系統。由于采用的位置偏轉DAC為20位，掃描DAC為14位，能獲得0.25nm的掃描步距，分辨率更高，描畫數據增長1nm，可以更忠實地再現描畫數據。最快達到100ＭＨｚ的高速化掃描速度，保證了大電流描畫時的掃描步距很短，因而能提高對精度要求極高的圖形描畫的產出量。由激光束控制（LBC）的0.15nm（λ/4096）的最小定位單位及高分辨率，達到了世界最高水準的位置精度。
捷歐路JEOL JBX-9500FS 電子束光刻系統的自動校正功能(自動補償功能)，實現了可信賴的長時間穩定地描畫。自動補償可以根據時間（任意的）、場和圖形進行分別設定，非常適合于周末及休假等無人值守等情況下的長時間描畫。該系統最大能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的光掩模版，適合于納米壓印、光子器件、通信設備等各種領域的研發及生產。采用材料卡匣傳送系統（選配），最多可裝載10個卡匣。利用微間距控制程序（場尺寸微調程序）可以制作DFB激光器等的啁啾光柵。
| 電子槍 | ZrO/W 肖特基型 |
| 描畫方式 | 圓形束, 矢量掃描, 步進重復式 |
| 加速電壓 | 100kV |
| 樣品尺寸 | 樣品尺寸 (可以安裝): 最大300mmΦ的晶圓片, 最大6英寸的掩模版, 任意尺寸的的微小樣品。 |
| 最大場尺寸 | 1000µm×1000µm |
| 樣品臺移動范圍 | 260mmX240mm |
| 樣品臺控制單元 | 0.15nm（λ/4096） |
| 套刻精度 | ≦±11nm |
| 場拼接精度 | ≦±10nm （場尺寸為1000µm×1000µm） |
| 寫場內位置精度 | ≦±9nm（場尺寸為1000µm×1000µm） |
| 定位DAC | 20位 |
| 掃描速度 | 最大 100MHz |
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