牛津儀器 Ionfab 300 IBE離子束刻蝕
名稱：其他儀器與工具
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簡介：牛津儀器 Ionfab 300 IBE離子束刻蝕的靈活性、均勻性俱佳且應用范圍廣。我們的設備具有靈活的硬件選項，包括直開式、單襯底傳送模式和盒式對盒式模式。系統配置與實際應用緊密協調，以確保獲得速率更快且重復性更好的工藝結果。 多模式功能 ...
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- 產品介紹
牛津儀器 Ionfab 300 IBE離子束刻蝕的靈活性、均勻性俱佳且應用范圍廣。我們的設備具有靈活的硬件選項，包括直開式、單襯底傳送模式和盒式對盒式模式。系統配置與實際應用緊密協調，以確保獲得速率更快且重復性更好的工藝結果。
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多模式功能
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能夠與其它等離子體刻蝕和沉積設備相集成
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單晶圓傳送模式或集群式晶圓操作
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雙束流配置
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更低的表面薄膜粗糙度
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更佳的批次均勻性和工藝重復性
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準確終點監測 —— SIMS，發射光譜
牛津儀器 Ionfab 300 IBE離子束刻蝕特點
- 質量薄膜高 ——超低污染
- 產量高，緊湊的系統體積設計 ——運行成本低
- 已獲得專利的高速襯底架（高達1000RPM）設計，并配備了白光光學監視器（WLOM）——更為準確的實時光學薄膜控制
- 配置靈活 ——適于先進的研究應用
- 靈活的晶圓操作方式 —— 直開式、單晶圓傳送模式或者帶機械手臂的盒對盒模式
牛津儀器 Ionfab 300 IBE離子束刻蝕應用
- 磁阻式隨機存取存儲器（MRAM）
- 介電薄膜
- III-V族光電子材料刻蝕
- 自旋電子學
- 金屬電極和軌道
- 超導體
- 激光端面鍍膜
- 高反射（HR）膜
- 防反射（AR）膜
- 環形激光陀螺反射鏡
- X射線光學系統
- 紅外（IR）傳感器
- II-VI族材料
- 通信濾波器
